ASML给出的建议就是7nm工艺就要导入EUV光刻机,7nm EUV要比7nm DUV成本低一些。
台积电、三星在7nm,英特尔在自身标准10nm,都还是***用DUVi光刻机,不过那也是本来要发展的技术节点。
台积电也有N7+,就是7nm EUV。
不管是华为,还是中芯国际,都没有必要用DUVi光刻机硬搞5nm。
本身中国大陆的DUVi光刻机就数量有限,产能供不应求,优先提高7nm性能和良品率才是当务之急。
用数学补物理,非摩尔补摩尔,用群计算补单芯片。
任正非…。
docker有哪些有趣的用途?…
王冰冰好看吗?…
独立开发者都使用了哪些技术栈?…
朝鲜能在20年内赶上韩国的生活水平吗?…
备案号:粤-ICP备91894736号-1 网站地图